纳米氧化铌
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序号 | 产品名称 | 产品批号 | 数量 | LOI | Nb2O3 | 杂质含量 | ||||||||||||||||
Ta | Sb | Al | Mo | Pb | Ca | Fe | Cr | Cu | Mn | Zr | F | Si | Ti | W | Sn | Mg | ||||||
kg | % | |||||||||||||||||||||
1 | 氧化铌 | 3N | - | <1 | >99.9 | ＜0.0100 | ＜0.0200 | <0.0010 | <0.0010 | <0.0020 | <0.0010 | <0.0010 | <0.0010 | <0.0010 | <0.0010 | <0.0010 | ＜0.05 | <0.0030 | <0.0010 | <0.0010 | <0.0020 | <0.0010 |
应用领域：
1、氧化铌是生成金属铌，铌条，铌合金，碳化铌的原材料
2、氧化铌用于制备导电陶瓷制品，铁铌化合物，光学玻璃，铌酸锂晶体
3、五氧化二铌用作拉铌酸镍单晶，制特种光学玻璃、高频和低频电容器及压电陶瓷元件
五氧化二铌主要用于陶瓷 、电子陶瓷 、光学玻璃 、玻璃镀膜 、液晶显示器 、能源等 行业。 近年来，随着玻璃镀膜、液晶显示器等行业的飞速发展， 对五氧化二铌靶材特别是高品质五氧化二铌靶材的需求量越来越大。
通常情况下，对于高品质靶材，一是要求具有较高的致密度（>99.5%）和较高的纯度（>99.99%）；二是要求具有良好的微观相组织，即微观上靶材晶体的颗粒大小在微米级且分布均匀。此外，五氧化二铌靶材还需要具有较好的力学性能。